Alliage de Niobium tantale cible de pulvérisation

Alliage de Niobium tantale cible de pulvérisation

Base d’informations Tantalum Niobium alliage cible de pulvérisation (TaNb20, TaNb30, TaNb3, TaNb40) tantale tungstène alliage Sputtering cible Grade : RO5252, RO5255 s’il vous plaît se référer à la taille et de la tolérance de cible de tantale. Cible circulaire Description produit : spécifications régulières : 60/65/95/100 * 30/32/40/45 mm...
Product description

Informations de base

Modèle n ° : cible de pulvérisation cathodique

Alliage de Niobium tantale cible de pulvérisation
(TaNb3, TaNb20, TaNb30, TaNb40)
Cible de pulvérisation de tantale tungstène alliage
Catégorie : RO5252, RO5255
Veuillez vous référer à la taille et de la tolérance de cible de tantale.

Description du produit

La cible circulaire : spécifications régulières : 60/65/95/100 * 30/32/40/45 mm

Cibler la plaque : (8-25) mm * (150-300) mm * mm (1000-2500)

Cibler le tube : 70mm * 7mm / 10mm

Hot Tags: Tantalum niobium alliage sputtering target, Chine, fabricants, fournisseurs, usine, entreprise, produits
Enquête

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